Evolution of Si-O-Si asymmetric stretching mode of SiO2 during Si and Ge nanocrystal formation by sputtering and ion implantation

İmer A. G., yerci s., alagoz A. s., serincan u., Turan R.

XXVIII European Congress on Molecular Spectroscopy (EUCMOS), İstanbul, Türkiye, 3 - 08 Eylül 2006, ss.227

  • Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
  • Basıldığı Şehir: İstanbul
  • Basıldığı Ülke: Türkiye
  • Sayfa Sayıları: ss.227
  • Van Yüzüncü Yıl Üniversitesi Adresli: Hayır