Evolution of Si-O-Si asymmetric stretching mode of SiO2 during Si and Ge nanocrystal formation by sputtering and ion implantation
XXVIII European Congress on Molecular Spectroscopy (EUCMOS), İstanbul, Türkiye, 3 - 08 Eylül 2006, ss.227, (Tam Metin Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
- Basıldığı Şehir: İstanbul
- Basıldığı Ülke: Türkiye
- Sayfa Sayıları: ss.227
- Van Yüzüncü Yıl Üniversitesi Adresli: Hayır