The effect of the post annealing on the formation of nanocrystalline SiC film deposited by PECVD at low temperature
Nanoscience and Nanotechnology IX (NanoTR-IX), Erzurum, Türkiye, 24 - 28 Haziran 2013, ss.130, (Tam Metin Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Tam Metin Bildiri
- Basıldığı Şehir: Erzurum
- Basıldığı Ülke: Türkiye
- Sayfa Sayıları: ss.130
- Van Yüzüncü Yıl Üniversitesi Adresli: Evet